Journal of Communications Technology and ElectronicsJournal of Communications Technology and ElectronicsРадиотехника и электроника0033-84943034-5901The Russian Academy of Sciences65045710.31857/S0033849423100078DPCDQTPHYSICAL PROCESSES IN ELECTRONIC DEVICESФИЗИЧЕСКИЕ ПРОЦЕССЫ В ЭЛЕКТРОННЫХ ПРИБОРАХUnknownFlow of high-energy positive oxygen ions from plasma onto the substrate in a pulsed magnetron discharge with a hot target.Поток положительных ионов кислорода с высокой энергией из плазмы на подложку в импульсном магнетронном разряде с горячей мишеньюKolodkoD. V.КолодкоД. В.dobrynya_kol@mail.ruKazievA. V.КазиевА. В.dobrynya_kol@mail.ruAgeichenkovD. G.АгейченковД. Г.dobrynya_kol@mail.ruLisenkovV. Yu.ЛисенковВ. Ю.dobrynya_kol@mail.ruKotelnikov Institute of Radioengineering and Electronics, Russian Academy of Sciences, Fryazino BranchФрязинский филиал Института радиотехники и электроники им. В.А. Котельникова РАНNational Research Nuclear University Moscow Engineering Physics InstituteНациональный исследовательский ядерный университет “МИФИ”P.N. Lebedev Physical Institute Russian Academy of SciencesФизический институт им. П.Н. Лебедева РАН0110202368101040104231012025Copyright ©; 2023, Д.В. Колодко, А.В. Казиев, Д.Г. Агейченков, В.Ю. ЛисенковCopyright ©; 2023, Д.В. Колодко, А.В. Казиев, Д.Г. Агейченков, В.Ю. Лисенков2023Д.В. Колодко, А.В. Казиев, Д.Г. Агейченков, В.Ю. ЛисенковД.В. Колодко, А.В. Казиев, Д.Г. Агейченков, В.Ю. Лисенковhttps://innoscience.ru/0033-8494/article/view/650457

A group of high-energy positive O^+ ions was detected in a plasma flowhigh-current pulsed magnetron discharge with a hot target in an Ar/O_2 gas mixture. The mechanism for the formation of accelerated O^+ ions may be the conversion of accelerated ones in the cathode layer of negative ions O^– → O^+ in the processes of charge exchange or ionization by electron impact.

Зарегистрирована группа высокоэнергетичных положительных ионов O+ в потоке из плазмы сильноточного импульсного магнетронного разряда с горячей мишенью в газовой смеси Ar/O2. Механизмом возникновения ускоренных ионов O+ может выступать конверсия ускоренных в катодном слое отрицательных ионов O– → O+ в процессах перезарядки или ионизации электронным ударом.

plasma flowhigh-current pulsed magnetron dischargeelectron impactHandbook of Thin Film Deposition / Eds K. Seshan, D. Schepis. 4th ed. Amsterdam: Elsevier, 2018.Mattox D.M. Handbook of Physical Vapor Deposition (PVD) Processing. Amsterdam: Elsevier, 2010.Aghda S.K., Holzapfel D.M., Music D. et al. // Acta Mater. 2023. V. 250. P. 118864.Greczynski G., Petrov I., Greene J.E. et al. // J. Vac. Sci. Technol. Amer. Vacuum Soc. 2019. V. 37. № 6. P. 060801.Ellmer K., Welzel T. // J. Mater. Res. 2012. V. 27. № 5. P. 765.Welzel T., Ellmer K. // Vak. Forsch. Prax. 2013. V. 25. № 2. P. 52.Kaziev A.V., Kolodko D.V., Tumarkin A.V. et al. // Surf. Coatings Technol. 2021. V. 409. P. 126889.Tumarkin A.V., Kaziev A.V., Kharkov M.M. et al. // Surf. Coatings Technol. 2016. V. 293. P. 42.Kolodko D.V., Ageychenkov D.G., Kaziev A.V. et al. // J. Instrum. 2019. V. 14. № 10. P. P10005.Kolodko D.V., Kaziev A.V., Tumarkin A.V. // 8th Int. Congress on Energy Fluxes and Radiation Effects. Tomsk. 2–8 Oct., 2022. Tomsk: TPU Publishing House, 2022. P. 1028.Hippler R., Cada M., Stranak V. et al. // J. Phys. Commun., 2019. V. 3. № 5. P. 055011.Hippler R., Cada M., Stranak V. et al. // J. Appl. Phys. 2019. V. 125. № 1. P. 013301.Pokorný P., Bulíř J., Lančok J. et al. // Plasma Process. Polym. 2010. V. 7. № 11. P. 910.Pokorný P., Musil J., Lančok J. et al. // Vacuum. 2017. V. 143. P. 438.Hippler R., Denker C. // Plasma Sources Sci. Technol. 2019. V. 28. № 3. P. 035008.Pokorný P., Mišina M., Bulíř J. et al. // Plasma Process. Polym. 2011. V. 8. № 5. P. 459.