A series of studies of the structure of aluminum films deposited on single-crystalsilicon substrates in different temperature conditions. The roughness and grain size of films of nuclei 20 nm thick, deposited at elevated temperatures, and also dusted on top of the seed layer at room temperature to a thickness of 150 nm. The film profile was measured in an electron microscope. It was found that films on the hot sublayer turn out to be smoother, more rigid (less loose) and allow one to expect the creation of superconductor–insulator–superconductor and superconductor–insulator–normal metal transitions, respectively, with a higher current density and lower capacitance.
Проведен цикл исследований структуры пленок алюминия, напыленных на монокристаллические подложки кремния в разных температурных режимах. Микроскопом атомных сил исследована шероховатость и размер зерна пленок зародышей толщиной 20 нм, напыленных при повышенных температурах, а также допыленных поверх слоя зародыша при комнатной температуре до толщины 150 нм. Измерен профиль пленок в электронном микроскопе. Найдено, что пленки на горячем подслое оказываются более гладкими, более жесткими (менее рыхлыми) и позволяют рассчитывать на создание переходов сверхпроводник–изолятор–сверхпроводник и сверхпроводник–изолятор–нормальный металл соответственно с более высокой плотностью тока и меньшей емкостью.