<?xml version="1.0" encoding="UTF-8"?>
<!DOCTYPE root>
<article xmlns:mml="http://www.w3.org/1998/Math/MathML" xmlns:xlink="http://www.w3.org/1999/xlink" xmlns:xsi="http://www.w3.org/2001/XMLSchema-instance" xmlns:ali="http://www.niso.org/schemas/ali/1.0/" article-type="other" dtd-version="1.2" xml:lang="en"><front><journal-meta><journal-id journal-id-type="publisher-id">Journal of Communications Technology and Electronics</journal-id><journal-title-group><journal-title xml:lang="en">Journal of Communications Technology and Electronics</journal-title><trans-title-group xml:lang="ru"><trans-title>Радиотехника и электроника</trans-title></trans-title-group></journal-title-group><issn publication-format="print">0033-8494</issn><issn publication-format="electronic">3034-5901</issn><publisher><publisher-name xml:lang="en">The Russian Academy of Sciences</publisher-name></publisher></journal-meta><article-meta><article-id pub-id-type="publisher-id">650529</article-id><article-id pub-id-type="doi">10.31857/S0033849423050030</article-id><article-id pub-id-type="edn">UHIIFI</article-id><article-categories><subj-group subj-group-type="toc-heading"><subject>НАНОЭЛЕКТРОНИКА</subject></subj-group><subj-group subj-group-type="article-type"><subject>Unknown</subject></subj-group></article-categories><title-group><article-title xml:lang="en">Peculiarities of the Formation and Growth of Thin Gold Films on the Surface of Gallium Arsenide during Thermal Evaporation in Vacuum</article-title><trans-title-group xml:lang="ru"><trans-title>Особенности образования и роста тонких пленок золота на поверхности арсенида галлия при термическом испарении в вакууме</trans-title></trans-title-group></title-group><contrib-group><contrib contrib-type="author"><name-alternatives><name xml:lang="en"><surname>Bryantseva</surname><given-names>T. A.</given-names></name><name xml:lang="ru"><surname>Брянцева</surname><given-names>Т. А.</given-names></name></name-alternatives><email>bryantseva44@mail.ru</email><xref ref-type="aff" rid="aff1"/></contrib><contrib contrib-type="author"><name-alternatives><name xml:lang="en"><surname>Lyubchenko</surname><given-names>V. E.</given-names></name><name xml:lang="ru"><surname>Любченко</surname><given-names>В. Е.</given-names></name></name-alternatives><email>bryantseva44@mail.ru</email><xref ref-type="aff" rid="aff1"/></contrib><contrib contrib-type="author"><name-alternatives><name xml:lang="en"><surname>Lyubchenko</surname><given-names>D. V.</given-names></name><name xml:lang="ru"><surname>Любченко</surname><given-names>Д. В.</given-names></name></name-alternatives><email>bryantseva44@mail.ru</email><xref ref-type="aff" rid="aff2"/></contrib><contrib contrib-type="author"><name-alternatives><name xml:lang="en"><surname>Markov</surname><given-names>I. A.</given-names></name><name xml:lang="ru"><surname>Марков</surname><given-names>И. А.</given-names></name></name-alternatives><email>bryantseva44@mail.ru</email><xref ref-type="aff" rid="aff1"/></contrib><contrib contrib-type="author"><name-alternatives><name xml:lang="en"><surname>Ten</surname><given-names>Yu. A.</given-names></name><name xml:lang="ru"><surname>Тен</surname><given-names>Ю. А.</given-names></name></name-alternatives><email>bryantseva44@mail.ru</email><xref ref-type="aff" rid="aff1"/></contrib></contrib-group><aff-alternatives id="aff1"><aff><institution xml:lang="en">Institute of Radioengineering and Electronics, Fryazino Branch, Russian Academy of Sciences</institution></aff><aff><institution xml:lang="ru">Фрязинский филиал Института радиотехники и электроники им. В.А. Котельникова РАН</institution></aff></aff-alternatives><aff id="aff2"><institution>Department of Micro and Nanosystems, KTH Royal Institute of Technology</institution></aff><pub-date date-type="pub" iso-8601-date="2023-05-01" publication-format="electronic"><day>01</day><month>05</month><year>2023</year></pub-date><volume>68</volume><issue>5</issue><issue-title xml:lang="en"/><issue-title xml:lang="ru"/><fpage>461</fpage><lpage>469</lpage><history><date date-type="received" iso-8601-date="2025-01-31"><day>31</day><month>01</month><year>2025</year></date></history><permissions><copyright-statement xml:lang="en">Copyright ©; 2023, Т.А. Брянцева, В.Е. Любченко, Д.В. Любченко, И.А. Марков, Ю.А. Тен</copyright-statement><copyright-statement xml:lang="ru">Copyright ©; 2023, Т.А. Брянцева, В.Е. Любченко, Д.В. Любченко, И.А. Марков, Ю.А. Тен</copyright-statement><copyright-year>2023</copyright-year><copyright-holder xml:lang="en">Т.А. Брянцева, В.Е. Любченко, Д.В. Любченко, И.А. Марков, Ю.А. Тен</copyright-holder><copyright-holder xml:lang="ru">Т.А. Брянцева, В.Е. Любченко, Д.В. Любченко, И.А. Марков, Ю.А. Тен</copyright-holder></permissions><self-uri xlink:href="https://innoscience.ru/0033-8494/article/view/650529">https://innoscience.ru/0033-8494/article/view/650529</self-uri><abstract xml:lang="en"><p>Changes in the morphology and structure of the GaAs surface during the deposition of an Au film by thermal evaporation in vacuum have been studied. It has been found that the deposition of an Au film with the participation of a flow of particles and light from a heated evaporator causes the appearance of photoeffects in the near-surface GaAs layers, including light diffraction on surface acoustic waves, the growth of whiskers, and electron emission, which leads to the formation of microcracks on the GaAs surface and the growth of GaAs crystallites. It is shown that the structure and composition of the film boundaries of Au and GaAs surfaces depend on the electron concentration in gallium arsenide, which ultimately determines the properties of the electrophysical parameters of the Au–GaAs contacts.</p></abstract><trans-abstract xml:lang="ru"><p id="idm45181324749760">Проведены исследования изменения морфологии и структуры поверхности GaAs при осаждении пленки Au путем термического испарения в вакууме. Обнаружено, что осаждение пленки Au с участием потока частиц и света от разогретого испарителя вызывает возникновение фотоэффектов в приповерхностных слоях GaAs, включая дифракцию света на поверхностных акустических волнах, рост вискеров и эмиссию электронов, что приводит к образованию микротрещин на поверхности GaAs и росту кристаллитов GaAs. Показано, что структура и состав границ пленки Au и поверхности GaAs зависят от концентрации электронов в арсениде галлия, что в конечном итоге определяет свойства электрофизических параметров контактов Au – GaAs.</p></trans-abstract><kwd-group xml:lang="en"><kwd>morphology</kwd><kwd>structure</kwd><kwd>surface acoustic waves</kwd><kwd>film boundaries</kwd><kwd>microcracks</kwd></kwd-group><funding-group/></article-meta></front><body></body><back><ref-list><ref id="B1"><label>1.</label><mixed-citation>Черняев В.Н. Физико-химические процессы в технологии РЭА. М.: Высш. шк., 1987.</mixed-citation></ref><ref id="B2"><label>2.</label><mixed-citation>Гладков С.О. Физика композитов. Термодинамические и диссипативные свойства, М.: Наука, 1999.</mixed-citation></ref><ref id="B3"><label>3.</label><mixed-citation>Брянцева Т.А., Любченко Д.В., Марков И.А., Тен Ю.А. // Журн. радиоэлектроники. 2019. № 6. http://jre.cplire.ru/jre/jun19/9/text.pdf.</mixed-citation></ref><ref id="B4"><label>4.</label><mixed-citation>Брянцева Т.А., Любченко Д.В., Любченко В.Е. и др. // ФТП. 2014. Т. 48. № 2. С. 196.</mixed-citation></ref><ref id="B5"><label>5.</label><mixed-citation>Брянцева Т.А., Любченко В.Е., Любченко Д.В. и др. // РЭ. 2009. Т. 54. № 5. С. 621.</mixed-citation></ref><ref id="B6"><label>6.</label><mixed-citation>Lioubtchenko D.V., Briantseva T.A., Lebedeva Z.M. et al. // Defect and Diffusion Forum. 2001. V. 194–199. P. 745.</mixed-citation></ref><ref id="B7"><label>7.</label><mixed-citation>Брянцева Т.А., Марков И.А., Тен Ю.А. // РЭ. 2021. Т. 66. № 5. С. 490.</mixed-citation></ref><ref id="B8"><label>8.</label><mixed-citation>Физический энциклопедический словарь. М.: Сов. энциклопедия, 1983.</mixed-citation></ref><ref id="B9"><label>9.</label><mixed-citation>Laser Annealing of Semiconductors / Eds. by J.M. Poate, J.W. Mayer. N. Y.: Academic, 1982.</mixed-citation></ref><ref id="B10"><label>10.</label><mixed-citation>Арсенид галлия в микроэлектронике / Под ред. Н. Айнспрука, У. Уиссмена. М.: Мир, 1988.</mixed-citation></ref><ref id="B11"><label>11.</label><mixed-citation>Брянцева T.А., Любченко В.Е., Юневич Е.О. // РЭ. 1987. Т. 10. № 11. С. 2231.</mixed-citation></ref><ref id="B12"><label>12.</label><mixed-citation>Физические величины. Справочник. Под ред. И.С. Григорьева, Е.З. Мейлихова М.: Энергоатомиздат,1991.</mixed-citation></ref><ref id="B13"><label>13.</label><mixed-citation>Кристи Р., Питти А. Строение вещества: введение в современную физику. М.: Наука, 1969.</mixed-citation></ref><ref id="B14"><label>14.</label><mixed-citation>Киттель Ч. Введение в физику твердого тела. М.: Наука, 1978.</mixed-citation></ref><ref id="B15"><label>15.</label><mixed-citation>Фролов Ю.Г. Курс коллоидной химии. Поверхностные явления и дисперсные системы. М.: Химия, 1982.</mixed-citation></ref><ref id="B16"><label>16.</label><mixed-citation>Тонких А.А., Цырлин Г.Э., Самсоненко Ю.Г. и др. // ФТП. 2004. Т. 38. № 10. С. 1260.</mixed-citation></ref></ref-list></back></article>
