<?xml version="1.0" encoding="UTF-8"?>
<!DOCTYPE root>
<article xmlns:mml="http://www.w3.org/1998/Math/MathML" xmlns:xlink="http://www.w3.org/1999/xlink" xmlns:xsi="http://www.w3.org/2001/XMLSchema-instance" xmlns:ali="http://www.niso.org/schemas/ali/1.0/" article-type="other" dtd-version="1.2" xml:lang="en"><front><journal-meta><journal-id journal-id-type="publisher-id">Journal of Communications Technology and Electronics</journal-id><journal-title-group><journal-title xml:lang="en">Journal of Communications Technology and Electronics</journal-title><trans-title-group xml:lang="ru"><trans-title>Радиотехника и электроника</trans-title></trans-title-group></journal-title-group><issn publication-format="print">0033-8494</issn><issn publication-format="electronic">3034-5901</issn><publisher><publisher-name xml:lang="en">The Russian Academy of Sciences</publisher-name></publisher></journal-meta><article-meta><article-id pub-id-type="publisher-id">650749</article-id><article-id pub-id-type="doi">10.31857/S0033849423070070</article-id><article-id pub-id-type="edn">WPCXHX</article-id><article-categories><subj-group subj-group-type="toc-heading"><subject>НАНОЭЛЕКТРОНИКА</subject></subj-group><subj-group subj-group-type="article-type"><subject></subject></subj-group></article-categories><title-group><article-title xml:lang="en">Получение пленок оксида кремния методом импульсного магнетронного осаждения с горячей мишенью в реакционной среде</article-title><trans-title-group xml:lang="ru"><trans-title>Получение пленок оксида кремния методом импульсного магнетронного осаждения с горячей мишенью в реакционной среде</trans-title></trans-title-group></title-group><contrib-group><contrib contrib-type="author"><name-alternatives><name xml:lang="en"><surname>Лисенков</surname><given-names>В.</given-names></name><name xml:lang="ru"><surname>Лисенков</surname><given-names>В. Ю.</given-names></name></name-alternatives><email>kaziev@plasma.mephi.ru</email><xref ref-type="aff" rid="aff1"/></contrib><contrib contrib-type="author"><name-alternatives><name xml:lang="en"><surname>Харьков</surname><given-names>М.</given-names></name><name xml:lang="ru"><surname>Харьков</surname><given-names>М. М.</given-names></name></name-alternatives><email>kaziev@plasma.mephi.ru</email><xref ref-type="aff" rid="aff1"/></contrib><contrib contrib-type="author"><name-alternatives><name xml:lang="en"><surname>Колодко</surname><given-names>Д.</given-names></name><name xml:lang="ru"><surname>Колодко</surname><given-names>Д. В.</given-names></name></name-alternatives><email>kaziev@plasma.mephi.ru</email><xref ref-type="aff" rid="aff1"/><xref ref-type="aff" rid="aff2"/><xref ref-type="aff" rid="aff3"/></contrib><contrib contrib-type="author"><name-alternatives><name xml:lang="en"><surname>Тумаркин</surname><given-names>А.</given-names></name><name xml:lang="ru"><surname>Тумаркин</surname><given-names>А. В.</given-names></name></name-alternatives><email>kaziev@plasma.mephi.ru</email><xref ref-type="aff" rid="aff1"/></contrib><contrib contrib-type="author"><name-alternatives><name xml:lang="en"><surname>Казиев</surname><given-names>А.</given-names></name><name xml:lang="ru"><surname>Казиев</surname><given-names>А. В.</given-names></name></name-alternatives><email>kaziev@plasma.mephi.ru</email><xref ref-type="aff" rid="aff1"/></contrib></contrib-group><aff id="aff1"><institution>Национальный исследовательский ядерный университет “МИФИ”</institution></aff><aff id="aff2"><institution>Фрязинский филиал Института радиотехники и электроники им. В.А. Котельникова РАН</institution></aff><aff id="aff3"><institution>Физический институт им. П.Н. Лебедева РАН</institution></aff><pub-date date-type="pub" iso-8601-date="2023-11-01" publication-format="electronic"><day>01</day><month>11</month><year>2023</year></pub-date><volume>68</volume><issue>11</issue><fpage>1117</fpage><lpage>1121</lpage><history><date date-type="received" iso-8601-date="2025-01-31"><day>31</day><month>01</month><year>2025</year></date></history><permissions><copyright-statement xml:lang="en">Copyright ©; 2023, В.Ю. Лисенков, М.М. Харьков, Д.В. Колодко, А.В. Тумаркин, А.В. Казиев</copyright-statement><copyright-statement xml:lang="ru">Copyright ©; 2023, В.Ю. Лисенков, М.М. Харьков, Д.В. Колодко, А.В. Тумаркин, А.В. Казиев</copyright-statement><copyright-year>2023</copyright-year><copyright-holder xml:lang="en">В.Ю. Лисенков, М.М. Харьков, Д.В. Колодко, А.В. Тумаркин, А.В. Казиев</copyright-holder><copyright-holder xml:lang="ru">В.Ю. Лисенков, М.М. Харьков, Д.В. Колодко, А.В. Тумаркин, А.В. Казиев</copyright-holder></permissions><self-uri xlink:href="https://innoscience.ru/0033-8494/article/view/650749">https://innoscience.ru/0033-8494/article/view/650749</self-uri><abstract xml:lang="en"><p id="idm45257551336160">Исследованы режимы существования импульсного магнетронного разряда с горячей теплоизолированной кремниевой мишенью при работе в газовой смеси, содержащей кислород (Ar + O<sub>2</sub>). Рассмотрен диапазон средней плотности мощности на мишени 60…120 Вт/см<sup>2</sup> при длительности импульсов 100…300 мкс и частоте повторения 0.5…2 кГц. Построены карты стабильных режимов работы распылительной системы. Получены и продиагностированы покрытия Si<sub><italic>x</italic></sub>O<sub><italic>y</italic></sub> на подложках из монокристаллического кремния при различных значениях доли кислорода в газовом потоке и различных параметрах импульсного питания магнетрона.</p></abstract><trans-abstract xml:lang="ru"><p id="idm45257551336160">Исследованы режимы существования импульсного магнетронного разряда с горячей теплоизолированной кремниевой мишенью при работе в газовой смеси, содержащей кислород (Ar + O<sub>2</sub>). Рассмотрен диапазон средней плотности мощности на мишени 60…120 Вт/см<sup>2</sup> при длительности импульсов 100…300 мкс и частоте повторения 0.5…2 кГц. Построены карты стабильных режимов работы распылительной системы. Получены и продиагностированы покрытия Si<sub><italic>x</italic></sub>O<sub><italic>y</italic></sub> на подложках из монокристаллического кремния при различных значениях доли кислорода в газовом потоке и различных параметрах импульсного питания магнетрона.</p></trans-abstract></article-meta></front><body></body><back><ref-list><ref id="B1"><label>1.</label><mixed-citation>Strijckmans K., Schelfhout R., Depla D. // J. Appl. Phys. 2018. V. 124. № 24. P. 241101.</mixed-citation></ref><ref id="B2"><label>2.</label><mixed-citation>Shapovalov V.I. // Materials (Basel). 2023. V. 16. № 8. P. 3258.</mixed-citation></ref><ref id="B3"><label>3.</label><mixed-citation>Graillot-Vuillecot R., Thomann A.-L., Lecas T. et al. // Vacuum. 2022. V. 197. P. 110813.</mixed-citation></ref><ref id="B4"><label>4.</label><mixed-citation>Chodun R., Dypa M., Wicher B. et al. // Appl. Surf. Sci. 2022. V. 574. P. 151597.</mixed-citation></ref><ref id="B5"><label>5.</label><mixed-citation>Reed M.L., Fedder G.K. Handbook of Sensors and Actuators. N.Y.: Springer, 1998.</mixed-citation></ref><ref id="B6"><label>6.</label><mixed-citation>Pierce A.L., Sommakia S., Rickus J.L., Otto K.J. // J. Neurosci. Methods. 2009. V. 180. № 1. P. 106.</mixed-citation></ref><ref id="B7"><label>7.</label><mixed-citation>Cui L., Ranade A.N., Matos M.A. et al. // ACS Appl. Mater. Interfaces. 2012. V. 4. № 12. P. 6587.</mixed-citation></ref><ref id="B8"><label>8.</label><mixed-citation>Prevo B.G., Hwang Y., Velev O.D. // Chem. Mater. 2005. V. 17. № 14. P. 3642.</mixed-citation></ref><ref id="B9"><label>9.</label><mixed-citation>Long L., Yang Y., Wang L. // Sol. Energy Mater. Sol. Cells. 2019. V. 197. P. 19.</mixed-citation></ref><ref id="B10"><label>10.</label><mixed-citation>Steenbeck K. // Thin Solid Films. 1985. V. 123. № 3. P. 239.</mixed-citation></ref><ref id="B11"><label>11.</label><mixed-citation>Chau R.Y., Ho W-S, Wolfe J.C., Licon D.L. et al. // Thin Solid Films. 1996. V. 287. № 1–2. P. 57.</mixed-citation></ref><ref id="B12"><label>12.</label><mixed-citation>Tumarkin A.V., Kaziev A.V., Kharkov M.M. et al. // Surf. Coatings Technol. 2016. V. 293. P. 42.</mixed-citation></ref><ref id="B13"><label>13.</label><mixed-citation>Kaziev A.V., Kolodko D.V., Tumarkin A.V. et al. // Surf. Coatings Technol. 2021. V. 409. P. 126889.</mixed-citation></ref><ref id="B14"><label>14.</label><mixed-citation>Kaziev A.V., Kolodko D.V., Sergeev N.S. // Plasma Sources Sci. Technol. 2021. V. 30. № 5. P. 055002.</mixed-citation></ref></ref-list></back></article>
